电子光学行业如大规模集成电路（LSI）、超大规模集成电路（VLSI）等微电子（IC）工厂；液晶显示器（LCD）、彩色薄膜液晶显示器（TFT-LCD）、等离子显示器（PDP）以及发光二极管（LED）、有机电致发光显示器（OLED）、高分子有机电致发光显示器（PLED）等光电子工厂都离不开洁净的生产环境。生产所要求的环境不仅仅有：建筑围护、结构、空、水、体以及溶剂等原材料，而且还有声、光、电、磁、振等各种环境。例如：建筑的形式和层高、结构的承重、围护结构的装修材料；环境空的洁净度、温、湿度、压力梯度、空中对工艺有害的化学分子；水和体的纯度、粒子浓度、重金属的含量以及环境的噪声、照度、静电、电磁屏蔽、微振等等。
● 净：电子光学行业，尤其是微电子（IC）前工序和光电子（TFT-LCD）前工序的洁净室对环境洁净度的要求越来越净。例如，12吋园片超大规模集成电路前工序光刻间的洁净度要求高达1级（0.1µm）也是每立方英尺空中≥0.1 µm的粒子数不能超过1颗,相当于ISO 1级。特别重要的是它对环境空提出了去除分子污染（SO2 , Nox , VOC ,NH3等）的要求。
● 精：电子行业生产工艺对环境空温、湿度的控制精度要求越来越精。还以上述微电子的光刻间为例：其温度精度为±0.1℃，相对湿度的精度为±3%。
● 纯：大规模集成电路前工序对生产用的高纯水、高纯体以及高纯溶剂的纯度要求越来越纯。例如：对高纯水而言，不仅对其电阻率有要求，而且对高纯水中所含粒子、、重金属以及XXX元素的离子成份都有严格的要求，随着生产工艺的发展，对其纯度的要求也越来越高。可谓纯之又纯。
● 严：电子工业生产不仅对环境的洁净度，温、湿度有严格的要求，同时对环境的声（噪声）、光（照度）、电（静电）、磁（电磁场屏蔽）、振（微振）等都有严格的要求。尤其微电子生产，对环境的分子级污染提出了新的严格的要求。分子污染是指环境空中要严格控制例如钠（Na）元素、碳（COx）元素、硫（SOx）元素、（NOx）元素等对半导体工艺有害的元素。因此在理空时还要用淋水（淋自来水、淋纯净水）来吸收室外空中的有害分子成份和用化学过滤器来吸附新中的有害分子成份。
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