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提高镀层性能的后处理方法

   来源:黔优网责任编辑:优优  时间:2023-07-26 17:27:06 浏览量:68
导读:复合镀层的制备是在镀液中加入一种或数种不溶性固体颗粒,使固体颗粒与金属离子共沉积的过程,它实际上是一种金属基复合材料。化学镀镍之后,除烘烤除氢等热处理方式提高化学镀镍层性能之外,为赋予更高的耐蚀性、耐磨

复合镀层的制备是在镀液中加入一种或数种不溶性固体颗粒,使固体颗粒与金属离子共沉积的过程,它实际上是一种金属基复合材料。

提高镀层性能的后处理方法

化学镀镍之后,除烘烤除氢等热处理方式提高化学镀镍层性能之外,为赋予更高的耐蚀性、耐磨性和其他表面功能,可进行各种后续表面处理。

镀后铬酸盐钝化处理

将清洗之后的化学镀镍层浸入稀的铬酐水溶液(CrO3,1-10%)中数分钟,取出清洗干燥后,镀层的耐蚀性有所提高。某些商品的铬酸溶液中还含有成膜剂、润湿剂等添加剂。除钝化作用之外,还兼有封闭成膜作用,因此提高化学镀镍层的抗变色性能和耐腐蚀性能的效果是明显的。

镀覆阳极性镀层

在高磷化学镀镍层上再镀覆一薄层较低磷含量的化学镍层,形成双层化学镀镍结构。由于面层低磷化学镀镍的电极电位较低,成为牺牲阳极保护层,显著地提高了镀件的抗腐蚀性能。

同样,为了提高镀件的长期防腐蚀性能,在化学镀镍层上覆盖电镀锌、镉或者其他牺牲性阳极合金面层。甚至在镀覆锌、镉之后再进行较高温度下的热处理,目的在于提高镀层延展性,在不同金属层界面区可形成扩散层。

实际应用结果证明采用这种后处理工艺技术后,钢铁件的抗海洋大气腐蚀提高10倍左右。

提高镀层性能的后处理方法

表面功能化后处理

在非磁性化学镀镍层表面真空溅射沉积一薄层(1-3微米)高矫顽力的磁性材料,如钴基合金,形成高性能磁记录器件。计算机硬盘的制造工艺就是采用这种技术规范。

高密度印制电路表面选择性化学镀镍,然后在化学镀镍层表面浸镀金或化学镀金0.3-0.8微米,将可大大提高表面电连接性能。

化学镀镍层在稀硝酸或某些专用氧化性介质中形成的表面转换膜,它具有良好的光学吸收和发射特性,被称之为“超级黑色膜”,特别适用于太阳能吸收装置。

 
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